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| ＞三井化学 半導体向け膜材料「ペリクル」を生産する山口県の工場を増設 | |||||||
| ＞ＡＳＭＬ より微細な回路を描ける次世代装置を投入予定 | |||||||
| ＞三井化学 ＣＮＴ採用 強度と光の透過率向上 | |||||||
| ＞ＴＳＭＣ 熊本県に生産拠点新設 | |||||||
| ＞日本酸素HD ネオンを国産化 ２６年めど | |||||||
| ＞富士フイルム 研磨剤「ＣＭＰスラリー」 国内生産始める | |||||||
| （三井化学 発表） | |||||||
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